金融界2025年7月4日消息，国家知识产权局信息显示，重庆邮电大学;苏州中特微电子科技有限公司申请一项名为“一种基于超分辨生成对抗网络的光刻对准图像增强方法”的专利，公开号CN120259123A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明涉及光刻对准及其图像处理技术领域，公开了一种基于超分辨生成对抗网络的光刻对准图像增强方法，包括：AlignNet‑SR数据集的建立及预处理、套刻图像超分辨率重建和光刻对准模板特征匹配及中心定位计算，进行光刻机多次曝光的套刻对位。构建光刻对准图像超分辨率生成对抗网络(AlignGAN)，用生成器和判别器的对抗训练，并结合光刻对准视觉图像自适应直方图均值化处理，从而显著提升光刻对准图像的视觉质量和分辨率。通过模板特征匹配获得对准标志的中心定位后，利用光刻图像内轮廓标志和外轮廓标志快速精准对位，可适应各类标志，有效的提高了套刻对位的精准度，并且能够更加细致地处理图像的不同区域，从而避免过度增强或者细节丢失的情况。
本文源自金融界
